China começa a produção em série de máquinas de litografia DUV próprias
China inicia produção de máquinas de litografia DUV, avançando em semicondutores.
A China deu um passo significativo em sua busca por autossuficiência em semicondutores ao iniciar a produção em série de máquinas de litografia por imersão em ultravioleta profundo (DUV). Essa tecnologia é crucial para a fabricação de chips avançados, embora, por enquanto, não represente uma ameaça comercial imediata à empresa holandesa ASML, que é líder no setor.
A produção está sendo realizada pela Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, uma estatal que surgiu em agosto de 2023 com um capital registrado de 7 bilhões de yuans (aproximadamente US$ 1 bilhão). Aishengna incorporou equipes da Yuliangsheng, uma startup que começou a testar um protótipo DUV no ano anterior, e da Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
A Yuliangsheng tem vínculos com a SiCarrier, uma fabricante de equipamentos apoiada pela Huawei. Apesar de seu potencial, a Aishengna não possui um site ou informações públicas sobre suas operações, e suas tentativas de comunicação não obtiveram resposta.
Recentemente, foi revelado que a Aishengna planeja produzir cerca de cinco unidades de suas máquinas DUV ainda este ano, com a expectativa de aumentar a produção para aproximadamente 20 unidades em 2027. Esse desenvolvimento foi identificado como um avanço importante, embora a empresa ainda precise superar desafios técnicos para competir com a ASML.
Equipamento ainda depende de testes
As máquinas de litografia da Aishengna ainda estão em fase de testes e não atingiram o nível de desempenho dos equipamentos da ASML. Contudo, se forem bem-sucedidas, poderão fornecer uma alternativa para os fabricantes de chips na China, especialmente em um contexto de possíveis restrições ocidentais à exportação de tecnologia.
As primeiras unidades devem ser entregues à Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), à Hua Hong Semiconductor e à ChangXin Memory Technologies (CXMT) ainda neste ano, conforme informações de fontes próximas ao assunto. A ASML e as empresas mencionadas não se pronunciaram sobre o tema.
Após a divulgação das informações, as ações da ASML sofreram uma queda de 8%, refletindo a preocupação do mercado com o avanço da concorrência chinesa, embora analistas achem que o impacto a longo prazo será limitado.
Especialistas do JP Morgan Chase destacam que a produção inicial de algumas máquinas DUV não indica que a China esteja pronta para uma produção em grande escala, que requer altos padrões de rendimento e confiabilidade ao longo do tempo.
Barreira do EUV permanece
As máquinas DUV utilizam uma camada de água entre a lente de projeção e a lâmina de silício, permitindo a impressão de padrões de circuitos menores. Essa tecnologia é essencial para uma ampla gama de chips, podendo ser utilizada em processos mais avançados, embora ainda dependa de técnicas complexas para alcançar os resultados desejados.
Os Estados Unidos impuseram restrições à China quanto à aquisição dos sistemas de litografia ultravioleta extrema (EUV) da ASML, que são os mais avançados do mercado. Além disso, controles de exportação da Holanda também limitam o acesso a máquinas DUV mais modernas. Apesar dos esforços da China para se tornar autossuficiente, ainda está distante de alcançar a produção de EUV.
Apesar das dificuldades, a China continua sendo um mercado crucial para a ASML, representando aproximadamente 16% das vendas líquidas da empresa no primeiro semestre deste ano.
